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粉料熱處理裝置真空管式爐集控制系統(tǒng)與爐膛于一體。真空腔室采用石英管材質(zhì)，其貫穿整個爐體，爐管兩端選用不銹鋼法蘭密封，可在真空或氣氛環(huán)境下工作。加熱元件與爐管平行，均勻的分布在爐管外，有效地保證了溫場的...

高溫氣氛箱式馬弗爐集控制系統(tǒng)與爐膛于一體，主要用于材料在氣氛環(huán)境下的熱處理。設備以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和30段程序控溫，K型熱電偶，爐膛采用高純氧化鋁纖維材料，最高溫度能達到1200℃，...

真空氣氛立式爐爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。適合于對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下吊燒和淬火。專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬...

公斤級回轉(zhuǎn)窯高溫回轉(zhuǎn)爐適用于粉末材料回轉(zhuǎn)燒結(jié)，物料均勻旋轉(zhuǎn)，受熱均勻性好。石英爐管放置于爐體中間，爐管另一端采用卡箍連接旋轉(zhuǎn)密封組件，方便物料出入及管內(nèi)氣壓監(jiān)測。爐管旋轉(zhuǎn)過程中粉料能均勻攪拌不堆積，出...

高溫真空氣氛箱式爐主要用途：陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實驗、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做真空燒結(jié)、真空脫...

開啟式三溫區(qū)管式爐采用硅碳棒為加熱元件，額定溫度1300℃，最高溫度可達1400℃。采用宇電控溫儀表和S型熱電偶，可編程30段程序控溫，控溫精度±1℃。設備中包含一套316L不銹鋼快開法蘭，...

光催化爐式系統(tǒng)高溫爐主要應用于熱催化二氧化碳還原制工業(yè)原料或燃料，及光催化、光熱催化二氧化碳還原等方向研究，預期成果：探索太陽能向燃料轉(zhuǎn)化新途徑，提升太陽能到燃料的儲存效率，以及光催化和熱催化的一個耦...

高溫蒸餾儀以其合理的設計和簡便的操作，一臺儀器為實驗室工作提供了各種方法。特別是對小量和中等量的樣品快速地進行真空干燥，此設備非常適合這種用途。根據(jù)配置的不同，也可對物質(zhì)進行蒸餾、分餾、升華和冷凍干燥...

生物質(zhì)熱解裝置高溫爐應用生物質(zhì)材料在高溫環(huán)境下的熱解實驗，物料懸掛在反應管內(nèi)部，可以實現(xiàn)快速熱解和原位熱解功能。單次熱解量10-30mL左右，底部配有液相產(chǎn)物收集裝置。

熱重分析裝置高溫爐用于高溫氣氛下的物料失重、增重的情況研究。產(chǎn)品主要由分析天平，加熱爐，控溫及稱重系統(tǒng)等幾個部分構(gòu)成，熱重法所測定的性質(zhì)包括腐蝕、高溫分解、吸附/脫附、溶劑的損耗、氧化/還原反應、水合...